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    思峻高精密細胞破壁膠體磨

    思峻高精密細胞破壁膠體磨,GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。可以先將植物物料先研磨,研磨細化后再通過分散頭,進行分散,這樣可以避免細胞細化后抱團現象,從而提高細胞的破壁率。

    • 產品型號:GMD2000
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2024-09-17
    • 訪  問  量:1450
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    產品詳情

    一、產品關鍵詞概述:

    思峻高精密細胞破壁膠體磨,細胞破壁研磨分散機,高剪切研磨分散機,研磨分散機,細胞破碎機,細胞研磨機,高剪切膠體磨,專業膠體磨,膠體磨廠家,膠體磨價格

     二、細胞破壁的方式:

    1.細胞破壁技術作為一種高科技手段,其應用十分廣泛。除病毒外,一切生物均由細胞構成,根據細胞內核結構分化程度的不同,細胞可以分為原核細胞和真核細胞兩大類型。細胞壁(cellwall)是細胞的外層,在細胞膜的外面,細胞壁之厚薄常因組織、功能不同而異。植物、真菌、藻類和原核生物都具有細胞壁,而動物細胞不具有細胞壁。細胞壁本身結構疏松,外界可通過細胞壁進入細胞中。

    2.實驗插圖(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)

    2.細胞破壁的方法很多,按照是否存在外加作用力,可分為機械法和非機械法。

    分 類

    作 用 機 理

    適 應 性

    珠磨法

    固體剪切作用

    可達較高破碎率,可較大規模操作,大分子目的產物易失活,漿液分離困難

    高壓勻漿法

    液體剪切作用

    可達較高破碎率,可大規模操作,不適合絲狀菌和革蘭氏陽性菌

    超聲破碎法

    液體剪切作用

    對酵母菌效果較差,破碎過程升溫劇烈,不適合大規模操作

    X-press法

    固體剪切作用

    破碎率高,活性保留率高,對冷凍敏感目的產物不適合

    酶溶法

    酶分解作用

    具有高度專一性,條件溫和,漿液易分離,溶酶價格高,通用性差

    化學滲透法

    改變細胞膜的滲透性

    具一定選擇性,漿液易分離,但釋放率較低,通用性差

    滲透壓法

    滲透壓劇烈改變

    破碎率較低,常與其他方法結合使用

    凍結融化法

    反復凍結-融化

    破碎率較低,不適合對冷凍敏感目的產物

    干燥法

    改變細胞膜滲透性

    條件變化劇烈,易引起大分子物質失活

    3.細胞破壁技術是一種超微粉劑加工技術,對中藥臨床應用是一場革命,中藥材細胞破壁超微粉碎后的藥效釋出,藥性變化,治療效果方面有質的飛躍變化。一般人體細胞大小為10-100μm,中藥超微粉的顆粒細度為3-5μm,中藥材(植物及動物)的細胞尺度為10-100μm左右。現常用的中藥丸劑粉末細度為150-180μm.中藥材的有效成份通常分布于細胞內與細胞間質,而以細胞內為主。中藥若采用常規方式粉碎,其單個粒子常由數個或數十個細胞所組成,細胞的破壁率極低。

    三、上海SGN高剪切研磨分散機結構:

    1.如果采用高剪切研磨分散機來粉碎,植物細胞的破壁率將大大提高。

    GMD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
    2.GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。可以先將植物物料先研磨,研磨細化后再通過分散頭,進行分散,這樣可以避免細胞細化后抱團現象,從而提高細胞的破壁率。
    3.*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。(齒列的深度:從開始的2.7mm,到末端的0.7mm)

    4.第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

    四、GMD2000系列研磨分散機的特點:(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)
    1. 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
    2.定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
    3. 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
    4. 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
    5. 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

    五、GMD2000系列研磨分散機的設備選型表

    型號

    流量

    L/H

    轉速

    rpm

    線速度

    m/s

    功率

    kw

    入/出口連接

    DN

    GMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    GMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    GMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    GMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    GMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    GMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150

     

    1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

     

    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。

     

    3 參數內的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。

     

    4 本表的數據因技術改動,定制而不同,正確的參數以提供的實物為準

     

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